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热电离同位素稀释质谱技术在痕量分析中的新进展
被引:16
作者
:
孟宪厚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
核工业部北京第五研究所
孟宪厚
机构
:
[1]
核工业部北京第五研究所
来源
:
质谱学报
|
1986年
/ 02期
关键词
:
同位素稀释质谱;
新进展;
IDMS;
表面电离;
电子轰击;
电离效率;
痕量分析;
常规分析;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文介绍1973~1984年间IDMS在地质学、年代学、核科学、海洋地质、海洋化学、环境科学、无机生物化学、临床医学、标准材料分析、高纯试剂分析及冶金学等方面的应用情况,并介绍负离子热表面电离技术、树脂球技术和四极质谱热表面电离技术的发展和应用。
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