HfO2/SiO2高反射膜的缺陷及其激光损伤

被引：18

作者：

胡建平

陈梅

付雄鹰

柴林

机构：

[1] 成都精密光学工程研究中心!四川成都

来源：

强激光与粒子束 | 2001年 / 05期

关键词：

HfO2/SiO2高反射薄膜; 表面缺陷; 激光损伤;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器 ,对高损伤阈值薄膜常采用的 Hf O2 /Si O2 薄膜进行了表面显微图象研究 ,分析了薄膜常见的表面缺陷 ,如节瘤 ,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明 ,不同缺陷的抗激光损伤能力大不相同 ,节瘤缺陷最低 ,约为 1 5 J/ cm2 ,薄膜的损伤阈值主要由其决定 ,孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高 ,约为节瘤的 2～ 3倍。节瘤缺陷在低能量密度的激光损伤所形成的孔洞 ,与镀制过程中形成的孔洞形貌相似 ,激光再损伤能力也相似。低能量密度的激光把节瘤缺陷变为孔洞缺陷是激光预处理提高薄膜损伤阈值的原因之一

引用

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页数：4

共 3 条

[1] SiO2半波覆盖层对HfO2/SiO2高反射膜激光损伤的影响<spanid="corr-video"class="type"style="display:none">附视频</span> [J].