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ISI-2802激光直写系统及其应用
被引：9
作者：
侯德胜
杜春雷
邱传凯
白临波
机构：
[1] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
来源：
关键词：
激光直写，掩模，二元光学，激光光刻机;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
摘要：
介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等，并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。
引用
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