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MoS2-Au共溅射膜摩擦学性能的研究
被引：3
作者：
顾则鸣
机构：
[1] 中国科学院兰州化学物理研究所
来源：
关键词：
共溅射;
聚集体;
耐磨寿命;
MoS2-Au;
射频溅射;
摩擦学性能;
D O I：
10.16078/j.tribology.1987.03.004
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
MoS2-Au共溅射膜具有非常优异的摩擦学性能,在相对湿度小于13％、等于50％、大于98％以及高真空1.33×10-5Pa的条件下,其耐磨寿命分别是MoS2溅射膜的2.7、6.0、2.4和24倍;在相对湿度为50％的摩擦环境中,具有比MoS2溅射膜低且稳定得多的摩擦系数。 利用扫描电镜研究了MoS2-Au共溅射膜的表面形貌和剖面结构。作者指出,这种膜之所以有很长的耐磨寿命,是因为最后在磨损轨迹上有一层反转移膜。可以认为,这种反转移膜的形成与MoS2-Au共溅射膜顶部的柱状聚集体结构有关。
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页码：153 / 156
页数：4
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