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硅压阻式低压传感器研制
被引:3
作者
:
论文数:
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机构:
朱秀文
张维新
论文数:
0
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0
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0
机构:
天津大学电子工程系
张维新
论文数:
引用数:
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机构:
毛干茹
论文数:
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机构:
宫丽文
机构
:
[1]
天津大学电子工程系
来源
:
天津大学学报
|
1992年
/ 03期
关键词
:
传感器;
压阻效应;
压力灵敏度;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
以各向异性腐蚀技术制造的矩形硅膜片为弹性敏感元件,研制了硅压阻式低压传感器。通过对矩形硅膜上应力分布的分析和计算,确定了力敏电阻的最佳位置和尺寸。压敏电阻全桥采用集成电路技术制作在2.5mm×5.5mm、厚35μm的矩形硅膜片上。在0~20kPa压力范围内,测得577μV/kPa·V的灵敏度,理论和实验结果有较好的一致性。
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Piezoresistanceccffect in Germanium and Silicon. Smith C S. Physical Review . 1954
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