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离子束增强沉积制备 Cr-N 薄膜及其摩擦学性能研究
被引：6
作者：
唐宾
朱晓东
刘道新
徐可为
杨生荣
机构：
[1] 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
[2] 中国科学院兰州化学物理研究所
来源：
关键词：
离子束增强沉积,薄膜,断裂韧性,摩擦学性能;
D O I：
10.16078/j.tribology.1998.02.004
中图分类号：
TH117,O484.4 [];
学科分类号：
080203 ;
摘要：
利用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）技术制备了Ｃｒ－Ｎ薄膜，并对不同能量氮离子轰击所制备的薄膜组成进行了Ｘ射线衍射及光电子能谱分析，测定了涂层的断裂韧性值，并对涂层的摩擦学性能进行了研究．结果表明：在相同试验条件下，氮离子轰击能量影响Ｃｒ－Ｎ薄膜的相组成及取向，采用低能量氮离子轰击所得到的薄膜具有较高的断裂韧性和优异的耐磨性能．
引用
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