功率器件封装失效机理可以根据封装工艺流程分成三个部分,芯片焊接(dieattach)时的焊料缺陷,打线(Wirebond)时的引线缺陷,最后塑封成型(molding)时的分层缺陷。除了采用以上三种分析手段定位和分析封装缺陷外,对于比较复杂的封装缺陷,如因为打线外力对芯片造成的打线损伤(bonding damge),环境或操作不当造成芯片沾污等,还可以利用聚焦离子束(focused ion beam,FIB),能量弥散X射线探测器(energy dis-persive X-ray detector,EDX)等分析手段。FIB可利用离子束去除芯片表面绝缘层或金属层,从而观察引线键合部分下层的芯片损伤。EDX可利用元素分析功能判断是否存在外来污染。