二次曲面移动拟合法DEM内插精度探讨

被引：10

作者：

蔺爱军

机构：

[1] 中铁第一勘察设计院集团有限公司

来源：

关键词：

二次曲面; DEM; 内插; 精度; 影响因素;

D O I：

10.19630/j.cnki.tdkc.2008.02.014

中图分类号：

U212.2 [勘测];

学科分类号：

081601 ;

摘要：

将外业实测断面作为真值,对外业实测断面与二次曲面移动拟合法内插出的断面做比较。结合编程实际,分析了出现内插粗差点的原因,提出了避免和剔除粗差点的方法,总结了影响该内插算法精度所涉及的各个因素。

引用

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