共 1 条
[1]
磁性材料基础.[M].张世远等编著;.科学出版社.1988,
FeNiN薄膜的制备及结构与磁性分析
被引：1
作者：
刘军
王合英
陈默轩
茅卫红
黄贺生
机构：
[1] 清华大学物理系
来源：
关键词：
Fe-Ni-N薄膜;
饱和磁化强度;
离子束辅助溅射沉积;
D O I：
10.16511/j.cnki.qhdxxb.2001.12.003
中图分类号：
TM271.2 [];
学科分类号：
摘要：
为了提高 Fe Ni化合物的饱和磁化强度 ,采用离子束辅助溅射沉积的方法对 Fe Ni薄膜进行掺氮 (N)的研究。实验中发现 ,掺氮后所生成的 Fe Ni N薄膜在结构上同 Fe Ni合金有相似之处 :N不与 Ni化合 ;在小掺镍量下 Ni以替代方式存在于薄膜中 ,在大的掺镍量下 Fe Ni N薄膜将有特定的相变发生。在磁性方面 ,得到了饱和磁化强度为 2 .0 T的Fe Ni N薄膜。
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