脂润滑下二硫化钼溅射膜的摩擦特性

被引:4
作者
罗虹,刘家浚,刘芬,陈萦,胡兴中
机构
[1] 清华大学摩擦学研究所,北京理化分析测试中心
关键词
脂润滑,MoS2溅射膜,摩擦特性,X射线光电子能谱;
D O I
10.16078/j.tribology.1994.04.004
中图分类号
TH117 [机械摩擦、磨损与润滑];
学科分类号
摘要
MoS_2溅射膜通常是用于干摩擦的场合,因而对它在脂润滑下的摩擦学行为,特别是对其在边界润滑状态下的作用都还很少有人进行研究。以解决空心圆柱滚子轴承早期磨损失效为主要目的,利用球-盘摩擦磨损试验机考察了在脂润滑下MoS_2溅射膜的摩擦特性。结果表明,脂加MoS_2溅射膜可以在比较宽的速度和载荷范围内表现出良好的减摩性能,此外,还利用X射线光电子能谱方法测定了射频溅射MoS_2固体润滑膜的元素化学状态、成分深度分布和膜层厚度等,分析了成膜条件对MoS_2溅射膜的影响,为获得理想的MoS_2薄膜提供了科学依据。
引用
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页码:314 / 319
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