多通放大器腔内杂散光

被引:23
作者
谭吉春
景峰
朱启华
王道伟
阎述卓
刘勇
机构
[1] 国防科技大学
[2] 光学工程系光电信息技术室!长沙
[3] 中国工程物理研究院
[4] 核物理与化学研究所激光工程部!绵阳-信箱
[5] 光学
关键词
材料光学损伤; 惯性约束聚变驱动器; 多通放大器; 杂散光束分析;
D O I
暂无
中图分类号
TN722 [放大器];
学科分类号
摘要
对 4程放大器中杂散光 1至 3阶会聚点进行了计算。以神光 III原型装置某光路设计方案为例 ,光线追踪结果显示 :两个空间滤波器的透镜反射面在光腔内产生约 90 0多个可能引起激光材料损伤的鬼像会聚点。
引用
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页数:5
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共 1 条
[1]  
Use of flow graphs of analysis of optical cavities. Dunn M H. Applied Optics . 1971