利用TPD-MS、IR和XPS表征还原态Co-Mo/Al2O3

被引：5

作者：

辛勤

魏昭彬

张卫民

盛世善

机构：

[1] 中国科学院大连化学物理研究所,中国科学院大连化学物理研究所,中国科学院大连化学物理研究所,中国科学院大连化学物理研究所

来源：

物理化学学报 | 1990年 / 04期

关键词：

共吸附; CO; NO; 还原态; TPD-MS; 程序升温脱附; 还原温度; Mo; MS; Al; XPS; IR;

D O I：

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摘要：

本文利用NO或/和CO吸附的TPD-MS方法,结合IR和XPS对还原态的Co,Mo,Co-Mo/Al2O3催化剂进行了深入考索.结果表明,还原态的Co-Mo/Al203表面上存在着两种吸附NO的Mo中心.弱吸附NO(Tmax为100℃)可被吸附的CO取代和强吸附NO(Tmax为300℃)不能被CO取代.同时存在三种吸附NO的CO中心,Tmax分别为80℃、180℃和330℃.前两者能吸附CO,后者只吸附NO.IR结果对这些不同的Mo中心和Co中心的存在提供了进一步旁证.XPS结果表明提高还原温度,Mo/Al比保持恒定,但Mo4+浓度增加,而Co/Al比却因部分Co进入Al2O3体相而降低。

引用

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