普鲁士蓝膜修饰电极的电化学阻抗谱

被引：8

作者：

张芬芬

吴霞琴

孟晓云

郭晓明

章宗穰

机构：

[1] 上海师范大学化学系!上海,上海师范大学化学系!上海,上海师范大学化学系!上海,上海师范大学化学系!上海,上海师范大学化学系!上海

来源：

物理化学学报 | 2001年 / 09期

关键词：

电化学阻抗谱(EIS); 循环伏安法; 电化学沉积; 普鲁士蓝; 修饰电极; 电化学参数;

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

测量了应用电化学方法制备的不同厚度的普鲁士蓝膜修饰电极的循环伏安行为与电化学阻抗谱.由所得到的循环伏安图讨论了普鲁士蓝修饰膜的氧化还原过程，并对相关的Nyquist图进行了解析，提出了相应的等效电路.在此基础上计算出较薄膜中普鲁士蓝/普鲁士白电化学反应的表观速率常数和表观扩散系数，讨论了膜厚度对电荷扩散的影响.当膜相对较薄时，电极过程主要由动力学过程控制；当膜达到一定厚度时，电荷在膜中的扩散速率受到限制，电极过程由动力学过程和电荷扩散过程共同控制，证实了文献报导的普鲁士蓝膜修饰电极为多层空间分布电荷传递模型.

引用

页码：788 / 791

页数：4

共 6 条

[1]

复合铁氰化合物电变色膜的研究[J]. 王荣,曹晓卫,黄春琴,郭晓明,王桂华,吴霞琴,章宗穰.光谱仪器与分析. 2001(01)

[2]

复合铁氰化合物电变色膜的研究[J]. 王荣,曹晓卫,黄春琴,郭晓明,王桂华,吴霞琴,章宗穰.光谱仪器与分析. 2001 (01)

[3] 普鲁士蓝膜修饰铂电极对过氧化氢的电催化还原研究 [J].