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等离子体聚合膜的制备、性能及其应用
被引：5
作者：
亢效虎
王敬宜
机构：
[1] 兰州医学院基础部
[2] 兰州物理研究所
来源：
关键词：
等离子体,聚合装置,薄膜性能;
D O I：
10.13885/j.issn.0455-2059.1998.01.011
中图分类号：
TQ320.721,TQ320.62 [];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
研制等离子体聚合装置，并用研制的装置在铝、银等材料上聚合六甲基二硅氧烷膜，进而分析膜的组分及性能．在设计的装置中，选用铝、银等材料作基材，用六甲基二硅氧烷作单体，进行多次放电聚合试验．在基材上可制备出硬膜，膜与基材粘附性好，并具有良好的电绝缘性和优异的抗氧化性．利用研制的装置，可制备聚合膜，其良好的性能可用作一些材料的耐腐蚀保护膜．
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