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氧化铟锡薄膜材料开发现状与前景
被引：38
作者：
李玉增
赵谢群
机构：
[1] 北京有色金属研究总院
来源：
关键词：
ITO薄膜,PVD沉积,原子层外延,平板液晶显示,薄膜,晶体管;
D O I：
10.13373/j.cnki.cjrm.1996.06.012
中图分类号：
TN321.5 [];
学科分类号：
摘要：
综述了氧化铟锡（ＩＴＯ）薄膜透明导体材料的结构与光、电特性，分析了研制与开发现状，展望了产业化应用前景
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页数：4
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