宽离子束刻蚀微透镜阵列研究

被引：9

作者：

赵光兴，杨国光，陈洪，侯西云

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

来源：

微细加工技术 | 1995年 / 01期

关键词：

宽离子束；刻蚀；微透镜阵列;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

本文对宽束离子束刻蚀技术进行了研究，并运用宽离子束对微透镜阵列进行了刻蚀，表明宽离子束可进行微米、亚微米刻蚀。

引用

收藏

页码：21 / 24

页数：4

相关论文

共 2 条

[1]

离子注入与分析基础.[M].王贻华;胡正琼编;.航空工业出版社.1992,

[2]

电子束和离子束加工.[M].范玉殿主编.机械工业出版社.1989,