渐变Al-N/Al太阳选择性吸收表面

建立了单铝阴极圆柱磁控溅射生产系统(JCK—300),一次可以在15只长1.2m直径37mm玻璃管上沉积涂层。在溅射系统中实验得到了Al-N复合材料之沉积工艺参数,确定了刚沉积(AD)与真空烘烤450℃1小时(HT)后这些Al-N复合材料的光学常数。Al-N介质膜的折射率n≈1.8,消光系数k<0.01可以作为选择性吸收表面的减反层。制备了一种在铝底层上的渐变Al-N吸收层(渐变Al-N/Al)新的太阳选择性吸收表面。以多层膜系计算这种表面的反射率与实验结果比较一致,太阳吸收率α≈0.93(AD)和α≈0.92(HT),以及发射率3≈0.06(AD,100℃)和3≈0.055(HT,100℃)运用Auger电子能谱(PHI—610)分析了渐变Al-N/Al选择性收收表面沿深度的成分分布。渐变Al-N/Al吸收表面的性能优良,制备用的溅射系统简单,又有高的溅射利用率,低的成本与没有污染,因而具有非常好的应用前景。