液体金属吸附促进位错发射的分子动力学研究

被引:4
作者
周国辉
周富信
万发荣
褚武扬
机构
[1] 北京科技大学材料物理系!北京
[2] 中国科学院力学研究所非线性连续介质力学开放研究实验室!北京
关键词
液体金属脆; 分子动力学模拟; Ga; Al;
D O I
暂无
中图分类号
O561 [分子物理学];
学科分类号
070203 ; 1406 ;
摘要
用第一原理算出 Rose方程中的参量后,利用陈氏反演原理可以求出 Al-Ga和 Cu-Ga 的对势;从而可研究Al和Cu裂纹表面吸附液体金属Ga之后对裂尖发射位错的影响. 结果表明,Al吸附Ga后可使发射位借的临界应力强度因子从KIe=0.5MPam1/2降为 KIe=0.4MPam1/2;对Cu则从KIe=0.55MPam1/2降为KIe(L)=0.45MPm1/2,即 Ga吸附后能促进位错的发射.另外,吸附 Ga之后裂尖前方容易产生空位团及 Frank位借。
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页数:8
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