共 1 条
能动抛光磨盘的有限元法分析
被引:7
作者:
曾志革
邓建明
姜文汉
机构:
[1] 中国科学院光电技术研究所
[2] 中国科学院光电技术研究所 四川成都
[3] 四川成都
来源:
关键词:
能动磨盘;
有限元法;
光学抛光;
D O I:
暂无
中图分类号:
TH706 [制造工艺];
学科分类号:
0804 ;
080401 ;
081102 ;
摘要:
能动磨盘在光学抛光时随磨盘移动位置和旋转角度不同而产生不同的变形以实时与大口径被抛光工件表面实现良好的吻合。模拟了能动磨盘的工作过程 ,探讨了用于光学抛光的可行性。以加工直径 1 .5 m,f1 /2的抛物面光学元件为例 ,用有限元法对能动磨盘能够产生的变形进行了仿真计算 ,结果表明能动磨盘能够以较高精度产生旋转对称或非对称的二次曲面
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