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控制道下移双稳元件中的射流附壁点位置的研究
被引:3
作者
:
周瑞章
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周瑞章
俞丽和
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俞丽和
机构
:
来源
:
上海力学
|
1981年
/ 01期
关键词
:
附壁射流;
下移;
位差;
双稳;
D O I
:
10.15959/j.cnki.0254-0053.1981.01.004
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文阐述了射流附壁点的位置与附壁式射流元件的位差及张角等参数的关系,从而为进一步设计有别于国外的控制道下移的附壁式双稳元件打下基础。全文共分四部分:一、问题的提出:二、射流附壁点的解析表达式及理论分析;三、射流附壁点的实验研究与分析;四、结论。
引用
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页码:28 / 33
页数:6
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