高反射率光学薄膜的一种新设计方法

被引：9

作者：

孔明东

李瑞洁

周九林

黄琼

机构：

[1] 成都精密光学工程研究中心!成都

[2] 西南技术物理研究所!成都

[3] 四川大学光电科学技术系!成都

来源：

光电子·激光 | 2000年 / 01期

关键词：

电场分布; 光损耗; 高反射率薄膜;

D O I：

10.16136/j.joel.2000.01.020

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

设计极高反射率光学薄膜必须考虑薄膜内电场强度分布对光损耗的影响。本文提出一种新设计方法用于既改善膜层内电场分布以减少薄膜的光损耗 ,同时又兼顾薄膜的反射率要求。该方法用薄膜的特征矩阵直接计算场强和反射率 ,建立综合评价函数来兼顾场强分布和光学反射率的要求 ,利用计算机进行优化设计。而且该方法能灵活有效地按任意场强和反射率要求优化设计各种膜系。

引用

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