ZL系列铸铝合金的微弧氧化

被引：39

作者：

罗胜联

周海晖

陈金华

旷亚非

机构：

[1] 湖南大学化学化工学院

[2] 湖南大学化学化工学院长沙

[3] 长沙

来源：

中国有色金属学报 | 2002年 / 03期

基金：

湖南省自然科学基金;

关键词：

铸铝合金; 微弧氧化; 膜层性能;

D O I：

10.19476/j.ysxb.1004.0609.2002.03.017

中图分类号：

TG174.451 [氧化法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

对含硅量为 8 %～ 12 %的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究。结果表明 :采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中 ,铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层。电子能谱 (EDS)和X射线衍射 (XRD)分析结果表明微弧氧化膜主要由Al,Si和O元素组成 ,膜的相结构主要为 η Al2 O3 ,α Al2 O3 和SiO2 ,并含有γ Al2 O3 和Mg ,W ,Cu等元素的氧化物。扫描电镜 (SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层 (内层 )和疏松层 (外层 )构成 ,疏松层表面存在许多气孔 ,而致密层完整光滑 ,具有较高的显微硬度和优异的耐磨耐蚀性能

引用

页码：491 / 495

页数：5

共 10 条

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