提高腔靶激光能量注入率的新途径

被引：4

作者：

陈家斌

郑志坚

唐道源

滕浩

丁永坤

陈红素

李雅轩

机构：

[1] 中物院核物理与化学研究所高温高密度等离子体物理重点实验室

来源：

关键词：

镀CH膜,激光能量注入率,堵口机理,数值模拟;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN249 [激光的应用];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ;

摘要：

在“星光Ⅱ”上测量了入射孔边缘镀ＣＨ膜的孔靶激光能量注入率，给出了注入率随入射激光能量和波长变化的经验公式，同时对堵口现象物理机理进行了一维数值模拟。实验结果表明：镀ＣＨ膜是增加激光能量注入率、提高腔靶辐射温度的有效方法。

引用

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