相移掩模对曝光图形空间像光强分布影响的计算机模拟

被引：8

作者：

沈锋

冯伯儒

孙国良

机构：

[1] 中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

来源：

微细加工技术 | 1995年 / 01期

关键词：

相移掩模；光刻分辨率；计算机模拟;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN470.598 [];

学科分类号：

摘要：

本文讨论了提高曝光分辨率的一种主要方法：相移掩模方法。分析了相移掩模提高分辨率的原理，提出了相移掩模成像的模拟思想，推导了数学公式，并实现了计算机模拟，给出了一些初步结果。

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页数：8

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共 2 条

[1]

成像光学.[M].王之江;伍树东著;.科学出版社.1991,

[2]

光学原理.[M].(英)玻恩(Born;M.);(英)沃耳夫(Wolf;E.)著;杨葭荪等译校;.科学出版社.1985,