黑镍涂层的制备与光学性能研究

被引：9

作者：

胡文旭

机构：

[1] 陕西师范大学物理学与信息技术学院西安

来源：

太阳能学报 | 2001年 / 04期

关键词：

选择性吸收; 涂层; 黑镍; 光学性能; 制备工艺;

D O I：

暂无

中图分类号：

TK511.4 [];

学科分类号：

080703 ;

摘要：

研究了以玻璃为基材 ,用电镀的方式制备BlackNickel-Cu -Glass选择性吸收涂层的方法 ,该涂层获得了α=0 93～ 0 95 ,ε =0 0 5～ 0 0 6 ,αε =15的光学性能 ,论述了制备条件和膜层厚度及基材表面光洁度对光学性能的影响 ,由实验结果得出了双层黑镍的最佳厚度为 0 0 48～ 0 0 6 3mg/cm2 ,单层黑镍的最佳厚度为 0 0 40～ 0 0 5 2mg/cm2 以及涂层组成的主要成分的比例范围。用图示法详细说明了镀液温度对涂层光学性能的影响。

引用

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