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基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法
被引:16
作者
:
论文数:
引用数:
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机构:
石一磊
苏俊宏
论文数:
0
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0
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0
机构:
西安工业大学光电工程学院
苏俊宏
论文数:
引用数:
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机构:
杨利红
论文数:
引用数:
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机构:
徐均琪
机构
:
[1]
西安工业大学光电工程学院
来源
:
应用光学
|
2009年
/ 30卷
/ 01期
关键词
:
相位偏移干涉法;
干涉图;
薄膜;
薄膜厚度测量;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O436.1 [干涉与衍射];
学科分类号
:
摘要
:
为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障。
引用
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页码:76 / 79+83 +83
页数:5
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