常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备

被引：9

作者：

姚兰芳

沈军

吴广明

王珏

机构：

[1] 同济大学波耳固体物理研究所

[2] 同济大学波耳固体物理研究所上海上海理工大学物理系

[3] 上海

[4] 上海

来源：

同济大学学报(自然科学版) | 2003年 / 09期

关键词：

低折射率薄膜; 溶胶-凝胶; 表面修饰; 常压;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过酸/碱二步法控制实验条件,结合低表面张力溶剂替换以及甲基非活性基团置换修饰、超声振荡等,在常压下成功地制备出折射率在1.11～1.27范围内的二氧化硅纳米多孔光学薄膜。制备过程中充分注意到稀释、老化、有机修饰表面、热处理和提拉条件对薄膜都有很大的影响,利用这些因素可以对该纳米薄膜的孔洞率、折射率进行控制,尤其是能制备低折射率薄膜,从而为该薄膜的应用开发奠定基础。采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率,薄膜中高的孔洞率、低的折射率归结于最终干燥阶段中的弹性回跳。扫描电镜(SEM)观察发现修饰薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构。耐磨实验表明所制备的薄膜有良好的机械性能。

引用

页码：1123 / 1126

页数：4

共 4 条

[1]

物理化学手册[M]. 上海科学技术出版社 , 姚允斌等编, 1985

[2]

Optical and mechanical properties of sol-gel antireflective films for solar energy applications[J] . Thin Solid Films . 1999 (1)

[3]

Ambient-dried SiO 2 aerogel thin films and their dielectric application[J] . Hee-Sun Yang,Se-Young Choi,Sang-Hoon Hyun,Chan-Gyung Park.Thin Solid Films . 1999 (1)

[4]

Thin aerogel films for optical, thermal, acoustic and electronic applications[J] . L.W Hrubesh,J.F Poco.Journal of Non-Crystalline Solids . 1995 (1)

← 1 →