椭偏术双入角法测定薄膜光学参数与厚度

被引:4
作者
严樟根
殷志强
魏志渊
周邦伟
机构
[1] 清华大学
关键词
薄膜样品; 薄膜光学; 光学折射率; 溅射薄膜; 椭偏术; 截断误差; 局部离散误差; 评价函数; 反演计算; 厚度; 角法; 双入;
D O I
10.13922/j.cnki.cjovst.1986.01.013
中图分类号
学科分类号
摘要
运用“数值空间映射”概念讨论了椭偏术双入射角法测定薄膜的光学参数折射率(n)、消光系统(K)与厚度(d)的反演计算中出现的集合解现象。通过设置一个评价函数(Fu),用电子计算机来考察求解的结果,获得样品n、K与d的合理数值。用TP-77型单色椭偏仪对磁控反应溅射工艺制备的不锈钢-氧、不锈钢-一氧化碳与钛-氮三种复台薄膜材料的椭圆参量(∧,(?)),经计算机处理确定了这些样品的n、k与d值,和用(TYLASTEP及DEKTAKⅡA)台阶式测厚仪直接测得的薄膜厚度、透射—反射法确定的n、k的数值比较一致。这样,采用一台椭偏仪,以双入射角法能方便、经济又可靠地一次确定薄膜的光学参数n、k与厚度d。
引用
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