日光温室黄瓜不同叶位叶片光合作用研究

日光温室黄瓜叶片的Pn和CE以中、上位较高 ,尤其是第 4位叶最高 ,顶部叶和中下位叶次之 ,下位叶最低 ,光合作用饱和光强也以中位叶最高 ,但光补偿点多随叶位的下降而降低 ,基部弱光和CE降低是导致下位叶Pn降低的主要原因。在黄瓜生长期内 ,各叶位叶片的Pn随PFD的升高而增大。不同叶位叶片Pn的日变化规律基本相同 ,均呈单峰曲线型 ,高峰出现在 12时左右。随着种植密度的增加 ,植株各层次叶片的光量子通量密度逐渐降低 ,尤其是中下部叶片降低幅度较大。种植密度对上位叶的Pn影响不大 ,但对光补偿点影响较大 ;下位叶的Pn及其饱和光强多随种植密度的增加而降低 ,但不同密度处理的光补偿点差异不显著。黄瓜叶片对光强有一定的适应和调节能力 ,表现为光照越弱 ,AQY越高 ,对光的利用能力越强。