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通过纳米硅中量子点的共振隧穿
被引:8
作者
:
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机构:
刘明
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机构:
王子欧
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机构:
何宇亮
江兴流
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0
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机构:
北京航空航天大学应用物理系
江兴流
机构
:
[1]
北京航空航天大学应用物理系
来源
:
物理学报
|
1998年
/ 04期
关键词
:
量子点;
隧道二极管;
江畸二极管;
共振隧穿;
晶粒;
颗粒;
纳米硅;
量子化;
量子论;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O471 [半导体理论];
学科分类号
:
摘要
:
用纳米硅(nc Si∶H)薄膜制成了隧道二极管,并在其I V曲线上发现了不连续的量子化台阶.二极管的I V曲线可分成二部分:(1)0—7V,电流随外加电压增大而增大;(2)7—9V,电流随外加电压急剧增大并出现三个量子化台阶.量子化台阶的出现直接与纳米硅中的晶粒有关,根据nc Si∶H的独特结构,对载流子的传导通道进行了讨论;用通过nc Si∶H中量子点的共振隧穿对I V曲线进行了初步解释.
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页码:172 / 177
页数:6
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