化学沉淀法制备纳米二氧化硅

被引：63

作者：

郭宇

吴红梅

周立岱

杜金山

机构：

[1] 辽宁工学院材料与化学工程学院

[2] 辽宁工学院材料与化学工程学院辽宁锦州

[3] 辽宁锦州

来源：

关键词：

纳米二氧化硅; 化学沉淀法; 制备;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ127.2 [硅及其无机化合物];

学科分类号：

080601 [冶金物理化学];

摘要：

以水玻璃和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备纳米SiO2 。工艺条件为 :温度 4 0～ 5 0℃ ,pH值 5～ 6 ,干燥温度 110℃ ,焙烧温度 5 0 0℃ ,制得的二氧化硅粒径在 5 0～ 6 0nm ,比表面积大 ,分散性好 ,达到了工业生产的标准。

引用

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