溅射光谱选择性吸收表面的进一步改善

采用直流圆柱形磁控反应溅射研制了α-C:H（丁烷）,Al-O、Si-O与Al-C-F等薄膜。在波长为0.5微米时,这些薄膜的折射率n分别为1.85、1.70、1.50与1.40,消光系数k都很低。Al-C-F薄膜是比较理想的减反射膜,不仅折射率低,而且沉积速率高,约为SiOx的四倍,AlOx的十五倍。 Al-O膜（60nm）、Si-O膜（70nm）或Al-C-F膜（70nm）溅射沉积在以铜为基底的渐变不锈钢-碳涂层上,构成新的选择性吸收涂层,其太阳吸收率αs（AM2）均达0.96（真空500℃烘烤1小时）,室温发射率ε分别约为0.04、0.04与0.05,αs/ε约19—24。 研制了具有Al-C-F/α-C:H/SS-C/Cu吸收涂层的全玻璃真空集热管。在100℃时这种吸收涂层的发射率约为0.055。