等离子喷涂Cr3C2-NiCr涂层的气孔率统计分析

被引:21
作者
李剑锋
周霞明
丁传贤
机构
[1] 中国科学院上海硅酸盐研究所!上海
关键词
等离子喷涂; Cr3C2NiCr涂层; 气孔率; 统计分析;
D O I
暂无
中图分类号
V261.93 [表面处理];
学科分类号
摘要
研究了等离子喷涂Cr3C2 NiCr涂层的气孔率服从正态分布、对数正态分布和韦伯分布的拟合优度。在统计分析的基础上 ,考察了喷枪移动速率和涂层厚度对涂层气孔率的影响。结果表明 ,在不同喷枪移动速率下喷涂不同厚度涂层 ,其气孔率均同时显著地服从正态分布、对数正态分布和韦伯分布 ,它们的变异系数在 0 .17~ 0 . 4 8,韦伯模数在 2 .0~ 6 . 2 ;根据不同分布估计出的平均值的置信区间基本相同。在相同的喷涂工艺参数条件下 ,厚度小于10 0 μm的涂层的气孔率较高 ;当涂层的厚度较厚时 ,涂层的气孔率为一常数。在 50 ,75和10 0m/min三种喷枪移动速率中 ,以 75m/min喷枪移动速率喷涂涂层的气孔率最低。
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