复杂微光刻图形版图设计系统

被引:4
作者
胡勇
黄广宇
陈宝钦
李友
机构
[1] 中科院微电子中心微光刻光掩模实验室
关键词
版图; 设计; 图形变换;
D O I
暂无
中图分类号
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号
摘要
介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统。该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形 ,以及根据用户输入的任意表达式来生成特殊形状图形 ,同时它具有方便的图形形态处理功能 ,包括图形任意角度的旋转、旋转拷贝功能 ;重叠图形和回字图形挖空并加辅助线功能 ;位图格式图形轮廓化处理功能及图形切割、切块功能等。该系统极大地提高了目前集成电路版图设计工具软件绘图功能 ,使其更能适用于微电子、微光学、微机电系统等微光刻领域的复杂图形设计 ,是一种实用性很强的软件模块。
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页数:5
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共 2 条
  • [1] Visual C++数字图像处理.[M].何斌等编著;.人民邮电出版社.2001,
  • [2] 精通Visual C++图像编程.[M].周长发著;.电子工业出版社.2000,