离子束技术沉积羟基磷灰石薄膜的结构及溶解性能

被引：28

作者：

李旭东

翁杰

王培禄

赵纯培

张兴栋

机构：

[1] 四川联合大学材料科学技术研究所!成都,,四川联合大学材料科学技术研究所!成都,,四川联合大学核科学技术研究所!成都,,四川联合大学材料科学技术研究所!成都,,四川联合大学材料科学技术研究所!成都,

来源：

无机材料学报 | 1998年 / 04期

关键词：

HA薄膜; 钛; 离子束技术; 结构分析; 溶解性能;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

070204 [等离子体物理];

摘要：

分别采用离子束溅射和离子束增强沉积技术，以烧结羟基磷灰石（HA）陶瓷为靶材，在纯钛金属基片表面沉积HA薄膜．X光电子能谱分析表明：薄膜中Ca、P、O元素的化学态与所用HA陶瓷靶材相接近；相比HA靶材，薄膜表面存在CO23-．X射线衍射分析表明：沉积薄膜均为非晶态结构，经650℃退火处理转变为结晶磷灰石．在模拟体液中的溶解实验揭示：薄膜仅与溶液中Ca、P和O存在离子交换；薄膜易降解，浸泡10天，样品经历了降解、再沉积过程；相比离子束溅射沉积膜，离子束增强沉积膜具有加速沉积Ca、P的能力．

引用

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