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溅射MoS2膜在真空用滚珠轴承上的应用研究
被引：2
作者：
徐锦芬
朱昌铭
胡伟芳
刘洪
王秀娥
机构：
[1] 中国科学院兰州化学物理研究所
来源：
关键词：
射频溅射;
结合力;
摩擦力矩;
MoS2;
底材;
滚珠轴承;
滚动轴承;
溅射刻蚀;
D O I：
10.16078/j.tribology.1988.01.004
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
作者采用改装了的射频溅射设备在滚珠轴承上溅射MoS2膜,并选择了合适的工艺参数。用X-射线衍射仪和俄歇能谱仪研究了溅射MoS2膜的结构和与底材间的界面,评定了溅射MoS2的抗摩性能并测定了溅射MoS2膜润滑的滚珠轴承的摩擦力矩和耐久寿命。
引用
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