化学沉积法制备Pt/n-GaAs肖特基结

被引:1
作者
张遴绍
夏永姚
机构
[1] 吉林大学化学系
[2] 吉林大学化学系 长春
[3] 长春
关键词
肖特基结; 化学镀; 化学沉积; Pt/n-GaAs; GaAs;
D O I
10.13290/j.cnki.bdtjs.1992.01.004
中图分类号
学科分类号
摘要
本文报导了一种化学镀铂液在n型(ND=1016)单晶GaAs上沉积金属铂制备Pt/n-GaAs肖特基结的方法,由I-V曲线和热电子发射方程,测得其势垒高度和理想因子分别为0.82eV和1.53,文中还讨论了化学沉积机理。
引用
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共 3 条
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Sullivan A B. Electronics Letters . 1976
[2]  
Soviet Phys. Goed’berg Y A et al. Semicond . 1975
[3]  
Electron. Goed’berg et al. Lett . 1971