滴灌频率对温室小西瓜生长势、产量及品质的影响

被引：28

作者：

张保东 ^{[1
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刘国栋 ^{[2
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代艳侠 ^{[1
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周婕 ^{[1
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李永春 ^{[1
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陈宗光 ^{[1
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冯文清 ^{[1
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王旭 ^{[1
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机构：

[1] 北京市大兴区农业科学研究所

[2] 北京市大兴区种植业服务中心

来源：

中国瓜菜 | 2009年 / 22卷 / 06期

关键词：

灌溉频率; 西瓜; 生长; 品质; 产量;

D O I：

10.16861/j.cnki.zggc.2009.06.003

中图分类号：

S651 [西瓜]; S627 [瓜果设施园艺];

学科分类号：

090201 ;

摘要：

在日光温室栽培条件下研究不同滴灌频率对西瓜长势、产量及品质的影响,以确定温室西瓜种植最佳的滴灌频率和灌溉量。结果表明:不同灌溉频率对西瓜生长过程中叶面积和长势的影响较小。其中在整个果实发育期以每7d灌水1次,共浇灌3次,总灌溉量为65m3的处理效果最佳,667m2西瓜产量3564.6kg,中心可溶性固形物13.62%,是本试验条件下温室栽培小西瓜最优的灌溉频率和灌溉量,不仅小西瓜高产优质,同时又省工省时节水。

引用

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页数：3

共 3 条

[1] 灌水频率对膜下滴灌土壤水盐分布和棉花生长的影响研究 [J].