用碳糊修饰电极测定氨基酸的伏安法研究 Ⅱ.组氨酸在氧化铝修饰碳糊电极上的电化学行为

被引:9
作者
邹永德
王进
莫金垣
张润建
机构
[1] 中山大学化学系
关键词
组氨酸,氧化铝,修饰碳糊电极,伏安法;
D O I
暂无
中图分类号
O657.14,O657.14 [];
学科分类号
070302 ; 081704 ;
摘要
用10%氧化铝的修饰碳糊电极研究了测定组氨酸的伏安法。在0.05mol/L丁二酸-硼砂(pH=3.5)底液中在-0.6V出现一还原峰,结合2.5次微分技术测定组氨酸,在3.20~130μmol/L浓度范围内有良好的线性关系,相对标准偏差为3.4%,检出限为0.4μmol/L。检测灵敏度比文献报道有较大的提高。文中还讨论了电极过程。
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[1]   用碳糊修饰电极测定氨基酸的伏安法研究 Ⅰ.色氨酸和酪氨酸在聚酰胺修饰碳糊电极上的电化学行为 [J].
邹永德 ;
王进 ;
莫金垣 ;
张润建 .
分析测试学报, 1999, (02) :26-29