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二次离子质谱学的最新进展──第9届国际二次离子质谱学会议评述
被引:2
作者
:
邹庆生,查良镇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
清华大学
邹庆生,查良镇
机构
:
[1]
清华大学
来源
:
质谱学报
|
1995年
/ 02期
关键词
:
二次离子质谱学,最新进展,评述;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O657.63-2 [];
学科分类号
:
070302 ;
081704 ;
摘要
:
二次离子质谱学(SIMS)以其很高的灵敏度、很宽的动态范围和优良的深度分辨已逐步发展成为一种重要而有特色的表面分析手段。本文结合第9届国际二次离子质谱学会议(SIMS-IX)对SIMS的最新进展作一个简要评述,范围包括SIMS的各个方面:基础研究、仪器发展、定量分析、应用以及后电离技术等。
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页码:29 / 36
页数:8
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