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C3N4薄膜的结构与性能研究
被引:16
作者
:
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机构:
吴大维
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机构:
何孟兵
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机构:
郭怀喜
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机构:
罗海林
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机构:
张志宏
傅德君
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机构:
武汉大学物理系
傅德君
范湘军
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机构:
武汉大学物理系
范湘军
机构
:
[1]
武汉大学物理系
来源
:
物理学报
|
1997年
/ 03期
关键词
:
含氮量;
C3N4;
结合能;
束缚能;
石墨相;
等离子体增强化学汽相沉积;
性能研究;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O484 [薄膜物理学];
学科分类号
:
080501 ;
1406 ;
摘要
:
用射频等离子体增强化学汽相沉积技术合成C3N4薄膜,并采用强迫晶化技术,经透射电子衍射观测,薄膜具有多晶结构.用X射线光电子能谱测试了C,N原子结合能及含氮量.傅里叶变换红外光谱曲线表明薄膜中不含石墨相.测得薄膜的维氏硬度为29.2—50.0GPa
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页码:115 / 120
页数:6
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