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电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌
被引：13
作者：
杨防祖
曹刚敏
解建云
郑雪清
许书楷
周绍民
机构：
[1] 厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所
来源：
关键词：
Ni－W合金，电沉积层，结构，形态;
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小；合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征．讨论了上述实验结果．
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