微纳金属光学结构制备技术及应用

被引：21

作者：

谢常青 ^{[1
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朱效立 ^{[1
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牛洁斌 ^{[1
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李海亮 ^{[1
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刘明 ^{[1
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陈宝钦 ^{[1
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胡媛 ^{[1
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史丽娜 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室

[2] 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室

来源：

光学学报 | 2011年 / 31卷 / 09期

关键词：

光学制造; 微纳光学结构; 电子束光刻; X射线光刻; 自支撑薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

微纳光学结构制备技术一直是微纳光子学器件发展的技术瓶颈。针对微纳光学结构制备技术向小尺寸、高精度和广泛应用发展的趋势,报道了基于电子束、X射线和接近式光学的混合光刻制作微纳金属光学结构技术。针对微纳光子学器件复杂图形开发了微光刻数据处理体系,基于矢量扫描电子束光刻设备在自支撑薄膜上进行1×高分辨率图形形成,利用X射线光刻进行高高宽比微纳图形复制,再利用低成本接近式光学光刻技术进行金属加强筋制作。还报道了自支撑X射线金光栅衍射效率和抗振测试结果。

引用

页码：251 / 258

页数：8

共 22 条

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