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光刻机投影物镜像差的现场测量技术
被引：14
作者：
王帆
王向朝
马明英
张冬青
施伟杰
机构：
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所
[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海
[3] 上海
来源：
关键词：
光刻;
像差;
投影物镜;
成像质量;
泽尼克系数;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
为了在光刻机工作过程中保证投影物镜的成像质量,人们开发了一系列投影物镜像差的现场测量技术。对目前国际上常用的几种高精度投影物镜像差现场测量技术进行了分析和比较。
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