纳米压印技术

被引：12

作者：

孙洪文

刘景全

陈迪

顾盼

杨春生

机构：

[1] 上海交通大学微米纳米加工技术国家级重点实验室

[2] 上海交通大学微米纳米加工技术国家级重点实验室上海

[3] 上海

来源：

电子工艺技术 | 2004年 / 03期

关键词：

纳米压印; 热压印; 紫外压印; 步进—闪光压印; 微接触印刷;

D O I：

10.14176/j.issn.1001-3474.2004.03.001

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

传统光学光刻技术的高成本促使科学家去开发新的非光学方法,以取代集成电路工厂目前所用的工艺。另外,微机电系统(MEMS)的成功启发科学家借用MEMS中的相关技术,将其使用到纳米科技中去,这是得到纳米结构的一种有效途经。纳米压印在过去的几年里受到了高度重视,因为它成功地证明了它有成本低、分辨率高的潜力。纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印(含步进—闪光压印)和微接触印刷等。本文详细讨论纳米压印材料的制备及常用的三种工艺的工艺步骤和它们各自的优缺点。并对这三种工艺进行了比较。最后列举了一些典型应用,如微镜、金属氧化物半导体场效应管、光栅等。

引用

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