PLD法制备ZnO薄膜的退火特性和蓝光机制研究

被引：11

作者：

魏显起 ^{[1
]}

张铭杨 ^{[1
]}

满宝元 ^{[2
]}

机构：

[1] 济南大学理学院

[2] 山东师范大学物理与电子科学学院

来源：

光电子激光. | 2009年 / 20卷 / 07期

关键词：

脉冲激光沉积(PLD); ZnO薄膜; 晶体结构; 表面形貌; 光学特性;

D O I：

10.16136/j.joel.2009.07.002

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

通过脉冲激光沉积(PLD)方法,在O2中和100～500℃衬底温度下,用粉末靶在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜,在300℃温度下生长的薄膜在400～800℃温度和N2氛围中进行了退火处理,用X射线衍射(XRD)谱、原子力显微镜(AFM)和光致发光(PL)谱表征薄膜的结构和光学特性。XRD谱显示,在生长温度300℃时获得较好的复晶薄膜,在退火温度700℃时获得最好的六方结构的结晶薄膜;AFM显示,在此退火条件下,薄膜表面平整、晶粒均匀;PL谱结果显示,在700℃退火时有最好的光学特性。

引用

页码：897 / 900

页数：4

共 6 条

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