多晶硅表面酸腐蚀制备绒面研究附视频

被引：9

作者：

张发云 ^{[1
]}

叶建雄 ^{[2
]}

机构：

[1] 新余学院太阳能科学与工程系

[2] 南昌工程学院机械与动力工程系

来源：

光子学报 | 2011年 / 02期

关键词：

多晶硅; 酸腐蚀; 绒面; 反射率; 形貌;

D O I：

暂无

中图分类号：

TM914.4 [太阳能电池];

学科分类号：

080502 ;

摘要：

采用各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面,腐蚀液为HF和HNO3的混合溶液,缓和剂为NaH2PO4.2 H2O溶液.利用SEM、AFM和紫外分光光度计对硅片绒面进行检测和分析,初步探讨了酸腐蚀机理.结果表明:采用NaH2PO4.2 H2O溶液作为缓和剂,腐蚀后的硅片表面具有均匀的腐蚀坑,表面陷光效果较好,通过优化各种参量,反应速度可以控制在2μm/min左右,适合工业生产的要求.在富HF时,硅片表面易形成尖锐边缘的腐蚀坑,出现或多或少的小孔,反射率最低可达16.5%17.5%;在富HNO3时,硅片表面易形成腐蚀坑较浅、尺寸偏大的气泡状绒面或光面,反射率较高.

引用

页码：222 / 226

页数：5

共 4 条

[1] 多晶硅太阳电池酸腐蚀绒面技术研究进展 [J].

张发云 ;

叶建雄 .

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[2] 各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面 [J].

郭志球 ;

柳锡运 ;

沈辉 ;

刘正义 .

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[4]

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