压弯光栅线密度变化分析

被引:3
作者
刘斌
王秋平
徐向东
付绍军
机构
[1] 不详
[2] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室
[3] 不详
关键词
压弯光栅; 线密度; 有限元法;
D O I
暂无
中图分类号
O436.1 [干涉与衍射];
学科分类号
摘要
理论上给出了光栅在子午面内弯曲为任意面形后,光栅线密度的变化关系,并采用有限元分析软件ABAQUS/Standard进行了模拟分析。理论与模拟分析的结论说明,压弯后光栅线密度是由光栅本身参数及压弯面形严格决定的。在此基础上设计一个简单的单色器,并在数值上给出了压弯后光栅线密度变化对单色器件性能的影响。由于光栅面形及其线密度的变化,不仅对光栅成像的聚焦特性有所改善,对彗差等高阶次像差的影响也是不可忽略的。
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