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稀土钇提高离子镀TiN膜层与基体结合力的研究
被引:2
作者
:
冯正,刘德浚,王少刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南京航空航天大学材料科学与工程系
冯正,刘德浚,王少刚
机构
:
[1]
南京航空航天大学材料科学与工程系
来源
:
南京航空航天大学学报
|
1994年
/ 05期
关键词
:
稀土元素;离子镀;结合力;X射线谱;蒸发率;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TG115.31 [];
学科分类号
:
080502 ;
摘要
:
研究了稀土钇不同含量时对离子镀TiN膜层与基体结合力的影响.用扫描电镜,俄歇谱仪,X射线衍射等手段,对加入稀土钇的TiN膜层作了分析。结果表明,加适量稀土钇后,TiN膜层与基体的结合力大大提高。其微观机制是,加稀土钇后,膜层相组成发生变化,在膜-基之间形成一过渡层,塑性相(Ti相)增加,脆性相(Ti2N)减少,从而减小了膜-基界面间的应力。此外,结果还表明,稀土钇能明显提高镀膜过程中钛料蒸发率,使成膜速率增加,在相同镀膜时间内TiN膜层加厚。
引用
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页码:658 / 663
页数:6
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