基于X光光刻的亚波长光栅

被引：4

作者：

李以贵 ^{[1
]}

杉山进 ^{[2
]}

机构：

[1] 上海交通大学微纳米科学技术研究院

[2] 日本立命馆大学微系统系

来源：

纳米技术与精密工程 | 2007年 / 04期

关键词：

亚波长光栅; X光光刻; 高深宽比;

D O I：

10.13494/j.npe.2007.052

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即X光光刻得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长光栅.用此纳米加工技术获得了栅距为500 nm、250 nm、150 nm,光栅高度为1900nm的特殊纳米光栅模具,开发了纳米无反射结构,并研制成功了亚波长光栅.该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、DVD读写头、无反射表面等需要亚微米结构的器件中.

引用

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